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产品先容
TS-300 Altair系列是我公司自主研发的原子层沉积装备,,ALD反应腔搭载在高产能的PECVD平台上,,知足了对装备产能的需求。。。现可提供高质量的Thermal ALD, 如AIN薄膜,,并陆续开发薄膜工艺。。。该产品接纳加拿大pc28预测六边形平台,,可搭配5个反应腔,,具有高产能和低颗粒度等优势。。。
产品特点
- 六边形的高产能平台
- 可搭配多个反应腔,,实现产能的优化设置
- 可沉积高质量的AIN薄膜
- ALD薄膜在高宽比(20:1)情形下台阶笼罩率可抵达95%
- 通过S2清静认证和F47标准磨练